カプセルシールド炉は、同社の得意分野であるプッシャ炉をベースとし処理品をカプセルで覆い、カプセル内部を目的に応じた雰囲気で満たすことで高精度なガス雰囲気制御を可能としました。従来の一般的な連続焼成炉では雰囲気の完全な分離は不可能でした。同社の新開発したカプセルシールド炉では、カプセルごとに雰囲気を素早く入れ替えことができ、高精度なガス雰囲気制御を可能としました。また、カプセルシールド炉では、処理品をカプセルで覆い、炉内を窒素で満たすことで、炉内汚染を防止、発熱体、炉材の長寿命化が期待できます。