真空技術とアセチレンの活用により
環境に優しく、高品質・高効率を達成した画期的な真空浸炭法です。
1.粒界酸化が無く、仕上げ肌が良好。
2.高濃度浸炭が可能。
3.細孔への浸炭が可能。
4.ススの発生（スーティング）無し。
5.炉内排気からのCO2の排出無し。
6.ガス浸炭と比較して浸炭時間は約半分。
7.浸炭ガス使用量は浸炭ガスと比較して1%以下。

※アセチレンのパルス添加を用いた真空浸炭は弊社の特許技術です。
【公開番号】特開２０００－１７８７１０（Ｐ２０００－１７８７１０Ａ）
【発明の名称】浸炭および浸炭窒化処理方法

従来のガス浸炭のみならず、既存の真空浸炭に対しても非常に優位性のあるプロセスです。 炉体構造も含めた総合的なシステムにより、高品質・高効率で量産性の高い浸炭を実現します。

ヒートサイクル

高効率な真空パルス浸炭により、ガス浸炭と比較して細孔への浸炭が可能。
真空炉ながら、窒素雰囲気による対流加熱・降温によるトータル時間の低減が可能