日本化学工業株式会社が製造・供給する「高純度ホスフィンガス」は、世界の半導体・エレクトロニクス産業を陰で支える極めて重要な超高純度材料です。同社はホスフィンガスの生産に成功して以来、独自の技術と安全管理ノウハウを蓄積してきました。出発原料（黄燐）からホスフィンガス、そしてその誘導体（有機リン化合物）までを一貫生産できる、数少ないメーカーの一つです。

純度98vol%の液化ホスフィンガスを多段精製により高純度化させ、半導体材料向けに利用可能な純度99.9999vol%レベルを達成しています。用途はSiをn型半導体化させるドーピング材料、もしくはGaPやInPといった燐系化合物半導体の原料に大別できます。Si半導体はCPU、メモリ、センサーおよびパワーデバイス等の電子部品に、化合物半導体は受発光素子として、LED照明、光ディスクドライブ、さらには光通信用の各種光デバイスに利用されます。