生成ＡＩの普及と通信インフラの高度化により、半導体材料への要求はかつてないほど高まっている。半導体の高性能化・高集積化を高純度材料で支えているのが、日本化学工業の「高純度ホスフィンガス」と「高純度赤燐」である。１３０年を超える無機化学の知見と精製技術により、デジタル社会の中核を担う超高純度素材を提供している。

半導体製造において、電気的特性を制御する「ドーピング」は極めて重要な工程である。同社の高純度ホスフィンガスは、独自の高度精製技術により不純物を極限まで排除し、ＡＩサーバー向けパワー半導体や最先端ロジックＬＳＩの歩留まり向上に貢献している。その品質は、世界の主要半導体メーカーから高い信頼を獲得している。

一方、次世代光通信や５Ｇ／６Ｇネットワークを支える化合物半導体では、その主原料として高純度赤燐が不可欠である。インジウムリン（ＩｎＰ）などの単結晶育成には「６Ｎ以上」の超高純度が求められ、この純度がデバイス性能や省電力化に直結する。同社はこの分野において半導体材料分野でグローバルに供給実績を持ち、福島第二工場を軸に生産体制の強化を進めている。

原料調達から高純度材料の製造までを一貫して手がけるプロセス管理と品質保証体制が、同社の競争優位を支えている。

日本化学工業は、基礎化学の力を礎に、先端材料を通じて高度情報化社会の発展に貢献し続ける。