第一機電は、高周波誘導加熱や抵抗加熱、通電加熱をコア技術とする熱処理装置の有力メーカーだ。半導体や次世代自動車、航空宇宙など先端産業向けに、３０００℃級の超高温下でも高精度に制御可能なクリーン熱処理ソリューションを提供し、市場での存在感を高めている。

同社の高度なエンジニアリング技術と独自性を象徴する主力装置が、「ロードロック式ＣＶＤ（化学気相成長）装置」と「真空誘導溶解炉」である。新材料開発や高度なモノづくり現場の生産性向上に直結するシステムとして評価が高い。

独自のハイブリッド加熱で半導体ラインの生産性を向上

ロードロック式ＣＶＤ装置は、ウエハーの熱処理に「高周波誘導加熱」、原料の気化・加熱に「ヒータ（抵抗）加熱」を組み合わせた、同社独自のハイブリッド方式を確立している。高周波による急速昇温が可能なため、１バッチあたりの熱処理時間を大幅に短縮した。さらに、最大16枚の未処理ウエハーの搬送から、加熱処理、最終回収までの一連の工程をすべて全自動で実行できる機構を搭載。クリーン環境を維持しながら、半導体や電子部品の製造ラインにおけるスループットの最大化とコスト低減を両立させている。

クリーンな溶解環境と高度な自動制御で安全鋳造を実現

真空誘導溶解炉は、真空または不活性ガスの精密に制御された雰囲気下において、高周波誘導加熱を用いて金属や新合金をクリーンに溶解する装置だ。導電性・非導電性の両ルツボに柔軟に対応し、最高１７００℃の高温域まで安定した加熱カバー能力を持つ。製品ラインアップは研究開発用の小型10キログラムクラスから、量産現場に対応する大型３００キログラムクラスまで豊富に展開。さらに、出湯時の傾動速度や角度をプログラムで自動制御する安全機能を備えており、オペレーターの熟練度不問で、安全かつ極めて精密な鋳造作業を実現する。

同社は独自の先進技術と、目まぐるしく変化する新材料開発ニーズへの柔軟な対応力、高度なカスタム対応のノウハウを武器に、国内外の先端モノづくり現場におけるサプライヤーとしての地位をさらに強固なものにしている。