環境にやさしい＝省インキ＝高画質

シンク・ラボラトリーは、省資源・環境対応型グラビアを支援する最新型全自動レーザーグラビア製版システム「New FX3」を開発した。12800 dpi の高解像度レーザーによりハイライト部のドット形状が安定化。この結果インキ転移特性が改善しカラー画像の再現性がアップ。ハイソリッドインキを使用することで、油性でも10μm のセル深度で印刷でき、彫刻版に比べると、インキや溶剤使用量を約２０％削減可能。

将来的にはVOCレス水性インキでは、深度5μmまで浅版化を推進することができる。印刷速度も毎分２００～４００ｍと高速で生産性と効率化に貢献し、インキ削減効果による乾燥エネルギー削減にもつながる。従来の電子彫刻から「 New FX3 」のレーザー版に切替えることで、インキ削減と優れた印刷再現性の両立が実現可能となった。今後も、高度な製版技術を核に、身近な食品パッケージから電子機器に使われる微細電子部品まで様々な製品の「製版」を手掛けていく。